全国首台电子束光刻机亮相，精度0.6nm！

2025年8月，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”亮相，其精度达到0.6nm，线宽8nm。 “羲之”是由浙江大学余杭量子研究院依托省重点实验室自主研发的新一代100kV电子束光刻机。该设备专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节，采用电子束直写技术，通过高能电子束直接在硅基材料上“手写”电路，无需掩膜版即可灵活修改设计。 与传统光刻机相比，“羲之”具有诸多优势。它将芯片调试周期从数月缩短至数天，例如华为海思使用该设备进行3nm芯片原型开发时，设计迭代效率提升40%，成本降低30%。此外，“羲之”的定价仅为国际同类设备的70%，目前已与中科大、之江实验室等机构达成合作。 “羲之”的诞生打破了西方的技术封锁，填补了我国在掩模版制造、工艺验证等环节的空白，为我国量子芯片、光子芯片等小批量高精度领域的发展提供了重要支撑。